光刻機第一股登陸A股-中國光刻機第一股

光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備被稱為半導體設備三大件，光刻機更被稱為半導體工業皇冠上明珠，在所有設備中價值量最大，生產難度也最高。

近期光刻機傳來兩個好消息，一是上海微電子官方發布消息稱，已于9月18日舉行新品發布會，宣布推出SSB520型新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機，將于年內交付。

二是9月17日上海證券交易所科創板上市委員會審議通過了華卓精科科創板IPO上市申請，華卓精科此前因宣稱其打破了ASML公司在光刻機工件臺上的技術上的壟斷，成為世界上第二家掌握雙工件臺核心技術的公司，被不少媒體稱為“光刻機第一股”。

隨著新一代光刻機的推出，核心部件供應商上市，國產光刻機真的要爆發了嗎？

封裝光刻非前道光刻

在芯片制造過程中，前道制造和后道封裝都會用到光刻機，但兩種光刻機在技術上有巨大差異，前道制造光刻分辨率須達到納米級，而后道封裝只需要到微米級，可以簡單理解為前道光刻機是高端，后道光刻機是入門款。

上海微電子推出的SSB520型光刻機是在SSB500/50技術上的迭代，可滿足0.8μm分辨率光刻工藝需求，極限分辨率可達0.6μm。

這款光刻機主要提供給下游先進封裝廠而非晶圓廠，簡單來說，潛在客戶是而非。

之前傳聞今年上海微電子將推出能夠實現28nm制程工藝的前道光刻機，主要是基于02專項于去年底結項的推測，但現在并沒有看到任何官方的消息，上海微電子官網最新的前道光刻機仍然為SSA600/20，分辨率90nm，所以對關心國產半導體的人來說，仍然需要靜靜等待。

光刻機第一股登陸A股

半導體設備有三大件，光刻機同樣有三大件，分別是光源、物鏡和工件臺，這是光刻機的核心子系統。

此前華卓精科宣布打破ASML在光刻機工件臺上的技術上的壟斷，成為世界上第二家掌握雙工件臺核心技術的公司，這次正式過會即將登陸A股，仿佛讓我們看到了光刻機有望加速實現國產化。

被質疑的“光刻機雙工件臺”

華卓精科在此前的招股說明書上會稿中，將引以為傲的光刻機雙工件臺列入主營業務，整個招股說明書“光刻機雙工件臺”總共被提及143次。

2017年-2018年，華卓精科光刻機雙工件臺業務營收分別為1521.37萬元和795萬元，在總營收當中的占比分別為28.12%和9.28%，下滑明顯，2019年，作為主營業務的雙工件臺業務營收竟然降至為零，將“雙工件臺”作為主營業務顯然有些不合適。

7月22日華卓精科更新的招股說明書中，2020年光刻機雙工件臺業務獲得了1737.74萬元的營收，但項目名稱也更改為了“光刻機雙工件臺模塊及技術開發”，也就是說，華卓精科的“光刻機雙工件臺”業務并不是直接來源于“光刻機雙工件臺”產品銷售，而是“光刻機雙工件臺模塊及技術開發”。

但在上會稿中華卓精科又表示，公司已向上海微電子交付4臺DWS雙工件臺（整機），一會說營收來自“光刻機雙工件臺模塊及技術開發”，一會又說向上海微電子發貨了4臺雙工件臺（整機），這似乎有些矛盾。

7月29日，科創板上市委對雙工件臺產業化提出質疑，華卓精科被當庭決定“暫緩審議”。

9月10日，華卓精科再度更新了招股說明書上會稿，卓精科對其主營業務及產品進行重新描述，不僅不再將“光刻機雙工件臺”業務列為主營業務，而是直接將其歸類到了“超精密測控設備部件”當中，名字也由“光刻機雙工件臺模塊及技術開發”改成了“精密運動系統及技術開發”，就連“光刻機雙工件臺”一詞也徹底消失在了上會稿中。

真實的華卓精科

根據最新的招股說明書上會稿，華卓精科的營收來自兩個部分，一是超精密測控裝備部件，和超精密測控裝備整機，其中超精密測控裝備部件去年營收1.17億元，超精密測控裝備整機營收0.3億元。

今年上半年公司營收6019.09萬元，較19年同期增長73.6%，凈利潤為-1874.07萬元；公司預計今年前三季度營業收入約為 12,400 萬元至 15,000 萬元，同比增長91.42%-131.56%；預計前三季度凈利潤為-1800萬元至-1500 萬元，去年同期凈利潤為-157.83 萬元。

公司目前的超精密測控裝備部件和超精密測控裝備整機主要應用于PCB、基因、生物等檢測設備，CIS、MMES、內存等3D-IC 的晶圓級鍵合，以及PVD、刻蝕、 離子注入等設備，從目前公司的營收看來，主要產品跟光刻機沒有太大關系。

光刻機雙工件臺變成了現在的納米精度運動及測控系統技術開發業務，去年營收1737.74萬元，在上交所的追問下，華卓精科在問詢回復中表示，報告期內僅交付了一臺“光刻機雙工件臺”，且截至2020年9月30日，該產品目前還尚在下游客戶——上海微電子處測試，沒有被正式驗收。

華卓精科“光刻機雙工件臺”技術實力

工件臺作為光刻機的核心部件，工件臺的步進和掃描的速度和精度是最關鍵的兩項指標。在高速運動下工件臺需達到2nm（相當于頭發絲直徑的三萬分之一）的運動精度，它的定位精度直接影響了光刻出來的晶圓的質量。

這也奠定了光刻機超精密工件臺在超精密機械制造與控制領域的尖端地位，被稱為超精密技術皇冠上的明珠。

華卓精科在上會稿中披露，公司DWS系列光刻機雙工件臺可實現優于4.5nm的運動平均偏差，已于2020年4月向上海微電子發貨；公司的DWSi系列光刻機雙工件臺運動平均偏差優于2.5nm，可應用于ArFi光刻機，有望于2021年實現生產。

如果光源和物鏡沒有問題的話，要光刻一道28nm的溝槽，4.5nm的運動偏差確實比較大，會嚴重影響良率，還需要繼續提升。

華卓精科表示，公司納米精度運動及測控系統產品與國際領先公司最新推出的產品使用相同的技術架構，但性能尚落后于競爭對手，在產品應用上存在代際差異。

總體來看，華卓精科的雙工件臺技術仍有提升空間，產品目前處于上海微電子驗證階段，規模化的商業應用還需要時間。

雙工件臺業務面臨的問題

華卓精科面臨的主要問題是雙工件臺產品的客戶單一，目前只有上海微電子一家，銷售具有依賴性。

國內某晶圓廠相關負責人對芯智訊表示：

“目前光刻機的雙工件臺基本都是光刻機原廠自己在做，上海微電子自己也在研發，雖然有采購華卓精科的雙工件臺，但是部分主要也是拿來做對比。現在情況是上海微電子對于自研和華卓精科的雙工臺都有同時在做驗證，但如果自研的雙工件臺沒有問題的話，未來可能將會全面轉向自研。”

也就是說，如果未來上海微電子自研成功，那么華卓精科將面臨沒有客戶的尷尬境地。

不過，華卓精科擁有的發明專利并不少，最新的上會稿顯示，截至2021年6月30日，通過單獨申請、受讓以及共同申請的方式，華卓精科共擁有198項專利，其中發明專利148 項、實用新型 43 項、外觀設計 2 項、美國專利 5 項，從專利數據來看，華卓精科的研發實力確實不容小覷。

結語

目前主要的半導體國產設備大多已經推進至28nm，甚至14nm、7nm，光刻機相對落后，這是外國對我國卡脖子的關鍵設備，所以國產光刻機被寄以厚望，關注度極高，但從實際的情況來看，推進速度可能沒有我們想象的那么快。

華卓精科的光刻機雙工件臺之所以被質疑，個人認為更多原因在于想借光刻機概念吸引更多眼球便于上市，并非光刻機雙工件臺技術是虛的，從公司多次承擔國家科技重大專項（02專項）和專利成果來看，華卓精科在光刻機工件臺領域確實是頂流企業。

營收和規模較小，是目前整個國產半導體設備行業的現狀，產業鏈整體突破還需要更多的時間。

來源:生活資訊網